◇ 光離子氧化除臭系統(tǒng)

◆ 工藝流程

首先，惡臭源從密閉室經(jīng)過負(fù)壓收集；然后，進(jìn)入中和、氧化吸收塔進(jìn)行除塵降溫；再次，進(jìn)入低溫等離子體+光催化一體化設(shè)備進(jìn)行惡臭分子分解；最后，通過引風(fēng)機(jī)將處理后尾氣排入大氣。對于，部分敏感惡臭源，可在一體化設(shè)備后段增設(shè)異味控制器消除異味源。

工藝流程圖

◆ 技術(shù)特點

  ●  采用組合工藝，凈化效率高；

  ●  采用進(jìn)口吸收填料，空塔風(fēng)更速大、直徑更小，減小占地面積；

  ●  采用進(jìn)口除霧填料，除霧效率高、為后續(xù)干式處理系統(tǒng)創(chuàng)造條件；

  ●  采用等離子體+光催化一體化設(shè)備，惡臭氣體處理徹底；

  ●  自動化程度高，操作簡單，維護(hù)方便。

◆ 應(yīng)用領(lǐng)域

廣泛應(yīng)用于制藥、香料、制鞋、橡膠、食品、釀造、污水處理廠、污水處理站、垃圾中轉(zhuǎn)站、餐廚垃圾處理等行業(yè)大風(fēng)量、低濃度惡臭氣體處理。